ZESTRON美国将在即将到来的SMTA-I行业展的技术会议上呈现其最近完成的题为"流体力学：短脚清洗的新进展”的研究结果。该会议于8月19日（周二）下午1点30分至3点在美国佛罗里达州奥兰多的迪士尼的科罗纳多温泉度假村举行。

在技术论文中，ZESTRON美国应用技术经理、化学工程学硕士Umut Tosun先生对为了进一步满足低短脚清洗需求的不断增长而推出的创新方法进行了讨论，包括：机械及化学方面的创新。以芯片的元件为例，如今需求最大的可移动元件之间的间隙已减小到不足1密耳。最新芯片元件(如 0201, 01005和01812)以及其他几何形状障碍物的亮相已引起清洗行业的广泛关注。由于挑战的出现，因此，在解决这个新几何形状的挑战之前，用户必须先确定这些残渣是可以用所选清洗剂进行清洗的。在呈现的一系列帮助用户克服清洗挑战的实验数据 该论文列为第三。特派清洗专家Umut Tosun 说："这些发现是基于特定设计的清洗液，根据流体力学模型而开发，以满足如今已知的最高清洗需求。”

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